溅镀靶材(Sputtering Targets)

科特‧莱思科公司能提供各种材质、尺寸及形状的溅镀靶材产品；可确保产品的纯度、密度及其成分均勻性。

靶材的制造过程会影响到整个溅镀工艺，从靶材结构的完整性到溅镀薄膜的特性、溅镀速率及泵抽至真空的速率等。

科特‧莱思科公司拥有全新的机械加工设备，能以优惠的价格向客戶提供常用的工业靶材，例如: 铝，钛等。

同时我们也采用其他技术来制造靶材，例如: 热均压制技术，真空弧熔技术等。

• 科特‧莱思科公司提供圆形、平板狀、矩形、三角形、环形及圆锥形等靶材，可让客戶在不同的应用设备上使用。
• 圆形靶材直径最大可达12寸，条形靶材最长可达140寸。
• 靶材厚度则由0.01寸至3寸不等。

我们的专利产品 Torus ^®磁控管溅镀源经过了多次的技术革新，并具有数十年的实际应用经验，是一款十分成熟的高科技产品。它具有卓越的靶材利用率、优秀的溅镀速率以及出色的薄膜均勻性等优点 ，且有各式各样的尺寸规格及安装结构可供客戶选择。

如果您需要Torus ^®产品手冊，请与我们联络。该手冊详细地说明了产品的技术规格及订购资讯，同时，也包括一些有实际运用效果的镀膜技术知识，以协助用戶优化薄膜工艺。