热蒸镀源及电子束蒸镀源 (Thermal and E-beam Evaporation Sources)

蒸发源(Evaporation Sources)
我们提供多种规格的热蒸发器：坩锅、蒸镀丝、蒸镀舟及其他器具，可应用于金属或有机物蒸镀。同时，我们也提供电子束蒸发器，并有多种规格的蒸镀容器及安装方式可供客户选择。

热蒸发器(Thermal Evaporators)
通常很多金属，例如铁、镍、铝、铜、锡、银及金，都可采用热蒸镀方式进行薄膜沉积。

我们提供的热阻式蒸镀器既有套装的法兰安装式热蒸镀器（其包括多达四组水冷式蒸镀用穿通密封件，防止交叉污染用的挡板及可选的蒸镀挡板），也有小型的蒸发枪，可与坩锅或蒸镀丝配套使用。

另外，我们还提供可应用于UHV的炉式热蒸镀源，其中HTE系列的蒸发温度可达1500°C，可用于高温材料蒸镀；而LTE系列可极其精确地稳定地控制600°C以下的蒸发温度，十分适用于低温有机材料的蒸发。

以上任何一种的蒸发源都可以按您的工艺需求配置成多个蒸发源组合的阵列，并配有各自的蒸镀挡板及膜厚监测传感器。

HTE 系列

电子束蒸发器 (Electron Beam Evaporators)
我们的集成式电子束蒸发套件既可用来升级翻新您现有的系统，也可以应用于新设计的系统。

我们可提供标准的法兰式安装或抽屉式安装的电子枪套件，前者可应用于内腔体安装的要求，而后者采用外挂式推拉轨道设计，对于维护及更换材料十分方便。

除了蒸镀挡板、交叉污染挡板及坩锅索引器等附件可选外，电子束蒸镀容器也有多种规格配置可供选择。