TORUS磁控管溅镀源 (TORUS Magnetron Sputter Sources)

科特‧莱思科公司制造TORUS品牌的磁控管溅射源的历史已经超过25年。我们可提供条形及圆形结构的溅射源，以供研发及工业生产应用。

圆形R&D溅射源 (Circular R&D Sputter Sources)
针对R&D应用，本公司所提供的圆形TORUS溅射源具有良好的薄膜均勻性及沉积速率。

我们同时也提供HV溅射源及UHV溅射源：其中HV溅射源可使用直径1~4寸的溅镀靶材；UHV溅射源可使用直径2～3寸的溅镀靶材。

TORUS的R&D溅射源既可以使用磁性靶材，也可以使用非磁性靶材；并兼容RF, DC或脉动DC等多种电源。

我们还提供齐全的溅射源附件，包括：靶表面气环、防止交叉污染用的烟囱及挡板。

另外，我们也能提供客戶订制的TORUS溅射源组合(多个溅射源安装在一个法兰上，并配备有所必要的附件)，来满足客戶的共溅射薄膜工艺需求。

规模生产用溅射源(Production Sputter Sources)
针对工业规模生产应用，我们则提供条形TORUS溅射源。它具有卓越的靶材利用率(高达45%)、高度溅射速率及功率密度等特色。

我们的条形溅射源，其宽度可从1寸到11寸，长度则可长达140寸。它具有以下设计特点：专利设计的磁性阵列、溅射气体直接引入靶表面、安装方式可选內部或外部、集成了等离子体暗区屏蔽罩（Dark Space Shield）。TORUS 条形溅射源可以使用磁性或非磁性靶材，也可使用RF, DC或脉动DC电源方式驱动。

另外，我们也提供规模生产所使用的大型的圆形溅射源(直径可长达12寸)及双条形结构溅射源。

维修与服务(Repair & Service)
我们可以提供完善的磁控溅射源维修、翻新及升级等服务；可服务的产品包括所有TORUS的R&D及规模生产用溅射源，以及许多其它厂家生产的溅射源。

所有的溅射源维修与服务，都将在位于匹茲堡市的科特‧莱思科总部的溅射源组装专用洁净室內进行。