科特‧莱思科公司   简体  繁体  ENG  
About Us Vacuum Products Overview Featured Product Contact Us - Locations
   

物理气相沉积真空系统(Physical Vapor Deposition, PVD)

PVD系统通常是在真空环境下,通过蒸发或溅射的方式处理原材料,从而产生气态烟云状材料原子或分子束,在基板上沉积生长成特定的薄膜。

为满足广大的研发(R&D)及小规模生产应用的需求,我们提供不同规模结构的物理气相沉积(PVD, physical vapor deposition)系统平台。

我们的PVD系统可含有以下任何一种,或多种组合的沉积技术:

  • 磁控溅镀 (RF, DC或脉冲DC操作)
  • 金属及无机物料的热蒸镀
  • 有机物料的低温蒸镀
  • 电子束蒸镀
  • 炉式分子束蒸镀
  • 脉冲雷射蒸镀
  • 离子束辅助沉积

我们也提供多种标准PVD系统平台,并且这些平台也可依客戶需求订制。

AXXIS

AXXIS沉积系统有助于多种沉积科技的应用,也可使复合沉积薄膜的处理更有效率。

多功能的腔体设计使得该系统可以灵活地选用门嵌入式或法兰口嵌入式的基板安装固定结构。另外,也可配备操作极其方便的抽屉式电子枪。

AXXIS

 

CMS 系列

如果您在进行前沿的材料研发,那么我们具有强大扩展性功能的CMS系列薄膜沉积系统将会是您的理想选择。

我们现有三种型号可供您选择,其中CMS-18™系统最受广大用戶的欢迎;它可以配置基片真空锁(预真空室,Load Lock),以及业界领先的Symyx®的工艺控制模组。

CMS18

PVD 系列

PVD产品系列的特色是采用了标准化的现代系统结构设计,可满足各种薄膜沉积工艺的应用,尤其适用于R&D及小批量生产。

我们提供三种型号以供选择,其中包含我们最受欢迎的PVD-75™;它的特色是将产品组装在一完全封闭式的机箱中,在适当完成平装后,不会占据无尘室任何空间。

pvd75

NANO 38

我们的新型NANO 38是一款小型的、经济的热蒸镀系统。它能方便有效地实现连续蒸镀的多层薄膜工艺。

它的简单封闭式设计理念正是来源于我们备受用戶欢迎的PVD-75系统。同时,它还配备了一套整合式的触摸屏幕控制系统。

Nano38

SPECTROS

SPECTROS ®系统是针对研究OLED/PLED器件所专门设计的。OLED/PLED通常被应用于面板显示及照明技术方面。

SPECTROS系统的标准配置是电脑化工艺控制及单工艺室设计的主体,并配备有整合式蒸镀遮罩的搁板架与帶气动挡板的有机材料低温蒸镀源。

SPECTROS

LUMINOS

LUMINOS®集群式多腔室薄膜沉积及分析系统适用于以下R&D应用情況:样品基板需要在真空环境下连续传送到不同的真空腔室,以完成不同的工艺或达到分析目的。该系统的标准配备是经济手动型样品传送结构。

标准配备的LUMINOS系统具有一个放射式样品传送中心腔室。中心腔室上最多可连结8个腔室。

luminos

OCTOS

OCTOS®是一套全自动化集群式多腔室薄膜沉积系统,通常应用于将样品基板在真空环境下连续传送到不同真空腔室,以完成不同的工艺过程或达到分析目的的小规模生产应用。

它卓越的膜层均勻度及重复性,是OLED/PLED及GMR应用的理想选择。

octos


科特‧莱思科公司 传真: 86-21-62181267 china@lesker.com