物理气相沉积真空系统(Physical Vapor Deposition, PVD)
PVD系统通常是在真空环境下,通过蒸发或溅射的方式处理原材料,从而产生气态烟云状材料原子或分子束,在基板上沉积生长成特定的薄膜。
为满足广大的研发(R&D)及小规模生产应用的需求,我们提供不同规模结构的物理气相沉积(PVD, physical vapor deposition)系统平台。
我们的PVD系统可含有以下任何一种,或多种组合的沉积技术:
- 磁控溅镀 (RF, DC或脉冲DC操作)
- 金属及无机物料的热蒸镀
- 有机物料的低温蒸镀
- 电子束蒸镀
- 炉式分子束蒸镀
- 脉冲雷射蒸镀
- 离子束辅助沉积
我们也提供多种标准PVD系统平台,并且这些平台也可依客戶需求订制。 |